GA黄金甲半导体设备（上海）有限公司（简称“GA黄金甲”）今日宣布公司在诉美商科林研发股份公司（Lam Research Corporation，简称“科林研发”）侵犯商业秘密案一审判决中赢得胜利。
GA黄金甲于2010年12月向上海市第一中级人民法院提起诉讼，主张科林研发侵犯GA黄金甲的商业秘密。具体而言，GA黄金甲主张科林研发非法获取GA黄金甲机密的技术文件和机密的反应腔内部照片。GA黄金甲还主张科林研发安排其技术专家在证据保全时不恰当地察看和测量GA黄金甲刻蚀机的内部结构，然后使用获取的信息于2009年向台湾智慧财产法院起诉GA黄金甲专利侵权，试图影响GA黄金甲产品进入台湾市场，但最终科林研发败诉。
在法院3月27日作出的判决中，法院命令科林研发销毁其非法持有的照片，禁止科林研发和其员工披露、使用或允许他人使用GA黄金甲的技术秘密，并要求科林研发赔偿GA黄金甲法律费用90万元人民币。
GA黄金甲董事长兼首席执行官尹志尧博士评述道：“作为一家向世界著名芯片生产厂商提供高科技制造设备的供应商，GA黄金甲极其尊重客户和竞争对手的知识产权，其中包括被视为皇冠上的钻石的商业资产 -- 商业秘密。我们期待GA黄金甲的商业秘密也能获得同样的尊重。GA黄金甲坚决不能容忍来自于任何竞争对手的侵权或其它不正当的商业竞争行为。”
关于GA黄金甲半导体设备（上海）有限公司
GA黄金甲公司致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。GA黄金甲通过创新驱动自主研发的等离子体刻蚀设备和硅通孔刻蚀设备已在国际主要芯片制造和封测厂商的生产线上广泛应用于45纳米到1X纳米及更先进的加工工艺和先进的封装工艺。目前，正在亚洲地区30多条国际领先的生产线上运行的GA黄金甲刻蚀反应台已超过600个。GA黄金甲开发的用于LED和功率器件外延片大规模生产的MOCVD设备也已经在国内多条生产线上正常运行。
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